Выделение под малыми углами

Выделение под малыми углами -  наиболее эффективный метод  формирования монослоя, когда возможно организовать непрерывный процесс выделения пленки [G.K. Zhavnerko, V.Ya. Shiripov. DEVICE FOR FORMATION OF NANOSTRUCTURED COATINGS ON SOLID SURFACES. Taiwanese Patent No.:  I542532. 2016.]. Рис. 1 схематично иллюстрирует реализацию такого процесса.

Рис. 1: Схематичное изображение процесса формирования мономолекулярной пленки на подложке, ориентрованной под малым углом относительно водной поверхности.

Раствор вещества постоянно подается в отсек нанесения и вещество уплотняется с помощью вращающегося барьера. Параметры нанесения вещества на поверхность субфазы и давление выделения задаются оператором и контролируются автоматически. Выделение монослоя происходит на подложку, пропускаемую сквозь монослой под углом 7-10 градусов относительно горизонтальной плоскости. Такой метод выделения  близок к методу горизонтального осаждения. Отличие заключается в непрерывной подаче подложек, как это реализовано на установке GT-650, позволяющей в конвейерном непрерывном процессе модифицировать положки вплоть до размера 550х650 мм. На установках лабораторного типа (GT-160) реализован цкличный процесс выделения, когда подложка вначале погружается под малым углом под  DI воду и извлекается после формирования монослоя. GT-160 дают возможность исследователям изучать как свойства сформированных покрытий, так и детально охарактеризовать процесс выделения пленки, когда необходим переход от лабораторных исследований к реальному производству.